0 引言
光刻技术最早应用于半导体分立器件和集成电路中的微细加工。光刻技术是现代半导体、微电子、信息产业的基础；在发光二极管、平板显示、先进封装、磁头及精密传感器等泛半导体行业中有着广泛的应用。随着各行业技术的不断提升，作为微电子技术工艺基础的微光刻技术[1-3]在半导体器件和集成电路研制开发中的特征尺寸越来越小，加工尺寸逐步进入深亚微米、百纳米以至纳米级。微电子技术的核心是集成电路的制造技术，而集成电路的制造技术的第一步就是集成电路的电路设计技术。因此微光刻技术发展同样也离不开电子设计自动化技术[4-7]的进步。Tanner Research Inc公司开发的L-edit软件[8-10]提供了用户编程接口UPI供用户扩展其功能，同时提供了大量的UPI函数扩展命令集，极大地增加了L-Edit软件的版图处理能力和灵活性。UPI的核心是宏界面，宏可以是用C++文件，或编译过的动态链接库。这样可以方便地和集成电路掩模版版图编辑工具软件L-edit连接，弥补现有的掩模版版图处理体系[11-14]中人工绘制版图这个薄弱环节，极大地提高了目前集成电路版图设计工具软件[15]绘图效率与准确度，使其更能适用于微电子、微光学、发光二极管等微光刻领域的高集成度复杂图形设计。本文采用C++对L-edit软件进行二次开发，实现微光刻领域的高集成度复杂版图的快速处理功能。
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作者信息：
黄翔宇，马协力，金焱骅
(中电国基南方集团有限公司，江苏 南京211153)
